在現代半導體制造工藝中，黃光CELL工藝扮演著至關重要的角色。而在這一工藝中，等離子清洗機以其獨特的優勢，發揮著不可替代的作用。
黃光CELL工藝是半導體制造中的一個關鍵環節，它涉及到對芯片表面的精細處理，以確保后續工藝的順利進行。在這個過程中，表面的清潔度、粘附性以及化學活性等因素，都對最終產品的性能有著至關重要的影響。而等離子清洗機，正是通過利用等離子體中的活性粒子與材料表面發生物理和化學反應，從而實現對材料表面的清潔、活化、刻蝕等處理，滿足黃光CELL工藝對表面處理的嚴苛要求。
等離子清洗機在黃光CELL中的主要應用之一是表面清潔。在半導體制造過程中，芯片表面往往會殘留各種污染物，如顆粒、油脂、有機物等。這些污染物不僅會影響后續工藝的精度和穩定性，還可能導致芯片性能的下降。而等離子清洗機能夠高效去除這些污染物，確保芯片表面的清潔度，為后續的工藝步驟打下堅實的基礎。
除了表面清潔外，等離子清洗機還能對芯片表面進行活化處理。在黃光CELL工藝中，芯片表面需要具有一定的粘附性，以便與后續的材料或工藝步驟形成良好的結合。而等離子清洗機通過激發等離子體中的活性粒子，使其與芯片表面發生化學反應，從而提高表面的化學活性，增強粘附性。這一應用對于提高芯片的可靠性和穩定性具有重要意義。
此外，等離子清洗機在黃光CELL工藝中還具有刻蝕作用。在某些情況下，需要對芯片表面的特定區域進行精細的刻蝕處理，以滿足工藝要求。而等離子清洗機通過精確控制等離子體的能量和分布，可以實現對芯片表面的局部刻蝕，達到預期的工藝效果。
