在半導體制造中，掩膜（也稱為光罩、光掩膜）起到非常關鍵的作用。掩膜是一種具有特定圖案的透明材料，主要用于將圖案傳輸到半導體晶圓上。具體來說，掩膜位于晶圓和光線之間，光線通過掩膜上的圖案照射到晶圓上，從而將圖案轉移到晶圓上。
掩膜的主要作用體現在以下幾個方面：
控制光刻過程：在半導體制造中，許多芯片工藝步驟采用光刻技術。掩膜作為光刻過程中的“底片”，能夠精確地控制光線照射到晶圓上的區域，從而控制晶圓上被蝕刻或沉積的區域。
傳輸電路圖案：在EDA（Electronic Design Automation）工具中，設計師可以使用計算機輔助設計軟件創建電路圖案，然后將這些圖案傳輸到掩膜上。掩膜作為電路圖案的載體，能夠將設計師的意圖準確地傳遞到晶圓上。
提高制造精度：由于掩膜具有高精度、高分辨率的圖案，因此能夠確保晶圓上的電路圖案具有非常高的精度和一致性。這有助于提高半導體器件的性能和可靠性。
實現多層電路設計：在復雜的半導體器件中，往往需要實現多層電路設計。掩膜技術能夠確保每一層電路圖案都能夠精確地傳輸到晶圓上，并且各層之間能夠準確地對齊和連接。
總之，掩膜在半導體制造中起到至關重要的作用，是確保半導體器件性能和可靠性的關鍵因素之一。
