真空等離子設備采用PLC 觸摸屏控制系統(tǒng)，精確的控制設備運行。高精度，快響應，良好的操控性和兼容性，完善的功能。真空等離子設備中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質，而且會產生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤濕性能。
真空等離子設備中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學鍵產生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網狀的交聯結構，大大地激活了表面活性。
真空等離子設備的處理溫度可以低至80℃、50℃以下，低的處理溫度可以確保對樣品表面不造成熱影響。真空等離子設備本身是很環(huán)保的設備，不產生任何污染，處理過程也不產生任何污染。真空等離子設備清洗的處理效果非常均勻穩(wěn)定，常規(guī)樣品處理后較長時間內保持效果良好。
真空等離子設備主要適用于各種材料的表面改性處理：表面清洗、表面活化、表面刻蝕、表面接枝、表面沉積、表面聚合以及等離子體輔助化學氣相沉積。真空等離子設備主要適用于生物醫(yī)療行業(yè)，印制線路板行業(yè)，半導體IC領域，硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。
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